2019-09-05

        富士膠片于9月2日正式發售 “FUJIFILM LTO Ultrium 8數據流磁帶”（以下簡稱“LTO8”），支持磁帶存儲介質 “LTO Ultrium*1”第8代標準，是備份和存檔大量數據的理想選擇。 LTO8使用具有優異磁性并能夠長期儲存的微粒子“鋇鐵氧體（以下稱為“BaFe”）磁性材料”，實現較大30 TB（未壓縮時為12TB）的記錄容量，是前代LTO7的兩倍。此外，數據傳輸速度較高可達750MB /秒（未壓縮時為360MB /秒），使用更便捷。該產品可以長時間、低成本、安全地存儲大量數據，滿足不斷增長的數據存儲需求。

        較近由于超高清4K、8K視頻的出現、物聯網及ICT的發展以及使用AI進行大數據分析的普及，世界上的數據量正在爆炸式增長。其中，數據生成一段時間后不再需要頻繁調取的“冷數據”占所有數據的80％以上。近年來，包括“冷數據”在內，使用累積數據的需求迅速增長，長期、安全且廉價地存儲這些數據的需求也越來越多。磁帶不僅具有容量大、成本低、長期存儲的特點，而且可以將數據存儲保存于離線狀態下，因此網絡攻擊導致數據損壞和丟失的風險很低。數據流磁帶已常年為知名數據中心和研究機構服務。未來，它將有望活躍在大規模生成數據的尖端領域，例如使用AI和物聯網實現高質量和高效率生產的智能制造、以及具有互聯網連接功能的智能駕駛等產業。

        富士膠片開發出具有優異磁性并能夠長久存儲數據的微粒子“BaFe磁性材料”。2011年，富士膠片制造出世界上第一個使用“BaFe磁性材料”的磁帶。2012年，首次發售“LTO Ultrium”標準下采用“BaFe磁性材料”的磁帶LTO6。克服了當時主流的“金屬磁性材料”容量增長的極限，富士膠片先于全球，首創使用“BaFe磁性材料”的磁帶，并一直引領市場至今。

        此次全新發布的LTO8同樣采用了“BaFe磁性材料”，升級了“NANOCUBIC技術”*2，將“BaFe磁性材料”進一步微粒子化并均勻地分散后涂布在磁帶表面。涂層平滑且厚度均勻。除了實現30 TB（未壓縮時為12 TB）的較大記錄容量，為LTO7的兩倍，還可以實現高達750 MB /秒（未壓縮時為360 MB /秒）的高速數據傳輸。此外，通過優化材料設計，實現了磁頭的高精度跟蹤和優異的運行耐久性。可以穩定地讀取和寫入數據，更可靠安心。

        自2000年推出LTO1以來，富士膠片一直致力于開發高性能、高質量、大容量的磁帶。除磁帶外，富士膠片還提供數據存檔存儲系統，可根據訪問頻率在磁帶和HDD上存儲數據。將來，LTO8將與數據歸檔存儲系統結合使用，以滿足節能和大容量數據存儲的需求。

        作為擁有世界較大份額*3的計算機磁帶制造商，富士膠片開發并提供滿足客戶需求、可信賴的高性能、高質量的記錄媒體及服務，致力于解決社會課題。

主要特點

（1）采用富士膠片獨創的“BaFe磁性材料”，實現較大30 TB的記錄容量

        富士膠片獨特的“NANOCUBIC技術”*2再升級，將“BaFe磁性材料”進一步微粒子化并均勻地分散后涂布在磁帶表面，涂層平滑且厚度均勻；此外還提升了記錄密度，12.65mm的帶寬可記錄6,656條數據，從而實現了較大記錄容量30TB（未壓縮時為12TB），達到前代產品LTO7的兩倍。

（2）方便可靠

        ①數據傳輸速度較高可達750MB /秒（未壓縮時為360MB /秒），使用更便捷。

        ②高質量播放信號，低錯誤發生率。此外還優化了材料設計，實現了磁頭的高精度跟蹤和優異的運行耐久性，并且可以穩定地讀取和寫入數據，更可靠安心。

（3）可以低成本長期存儲大量數據，是冷存儲的理想選擇

        與HDD相比，在存儲海量數據的應用方面，總擁有成本更低。

        磁帶可將大量數據保存于離線狀態下，因系統故障、病毒感染、網絡攻擊等導致的數據損壞和丟失的風險很低，能夠安全地存儲重要數據。

        在日本電子信息技術產業協會磁帶存儲專門委員會披露的加速評估測試中，已經證實磁帶可以穩定地存儲數據超過50年。

       *1 Linear Tape-Open，LTO，LTO商標，Ultrium和Ultrium商標是Hewlett Packard Enterprise公司、IBM公司以及Quantum公司在美國和其他國家的注冊商標。

       *2富士膠片獨特的納米薄層涂布型磁帶技術，實現高密度磁記錄。由實現磁性材料微粒子化的“納米粒子技術”、均勻分散和排列細分磁性材料的“納米分散技術”和實現超薄層涂布的“納米涂層技術”組合而成

       *3生產者份額。本公司調查。